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鍍鋁膜的保質(zhì)期是多長(cháng)時(shí)間?
沒(méi)有保質(zhì)期的，很多年都不會(huì )變質(zhì)，當然，如果保存不當就不行了，比如酸堿等，會(huì )腐蝕的，正常保存，pet彩色鍍鋁膜，不會(huì )變質(zhì)。
我們主要生產(chǎn)和經(jīng)營(yíng)高真空鍍鋁紙（啤酒標用鍍鋁紙、禮品包裝用鍍鋁紙和煙盒內襯用鍍鋁紙）、鐳射紙，雙向拉伸聚酯鍍鋁膜（VMPET），雙向拉伸聚酯彩色鍍鋁膜（COLORED VMBOPET），鍍鋁扭結膜以及鍍鋁無(wú)紡布等。
我們的經(jīng)營(yíng)理念：以市場(chǎng)為導向，pet彩色鍍鋁膜生產(chǎn)，以質(zhì)量為生命，以科技為，以客戶(hù)滿(mǎn)意為宗旨，以共同發(fā)展為目標，從而確保為客戶(hù)提供有效的產(chǎn)品和服務(wù)。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，pet彩色鍍鋁膜定制，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結構簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數研究性實(shí)驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要動(dòng)能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著(zhù)性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點(diǎn)是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強的附著(zhù)力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
鍍鋁膜是近幾年出現的新材料，鍍鋁膜既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬特性，從一定程度上替代了鋁箔。
鍍鋁膜復合后產(chǎn)生明顯的白色或灰點(diǎn)，這些斑點(diǎn)在滿(mǎn)版油墨印刷復合過(guò)程中為常見(jiàn)：
鍍鋁膜本身質(zhì)量較差，鍍層容易剝離，pet彩色鍍鋁膜價(jià)格，油墨及膠粘劑在其表面產(chǎn)生的粘接力高低不一，在斑點(diǎn)產(chǎn)生處油墨層與鍍層粘接力較低，層間緊密度差；沒(méi)有斑點(diǎn)處鍍層已明顯轉移，層間緊密度好。通過(guò)鍍鋁層反光強弱，形成白色或灰點(diǎn)，其斑點(diǎn)深淺程度與油墨遮蓋力有很大關(guān)系。遮蓋力好，斑點(diǎn)淺；反之，斑點(diǎn)嚴重。采用遮蓋力較好的油墨是清除斑點(diǎn)根本的方法。
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