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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)的作用下的高速運動(dòng)轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來(lái)而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點(diǎn)是加熱源的結構簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，操作方便；缺點(diǎn)是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點(diǎn)。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動(dòng)能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價(jià)很高，目前只能在少數研究性實(shí)驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要動(dòng)能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過(guò)程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來(lái)源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點(diǎn)。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著(zhù)性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點(diǎn)是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強的附著(zhù)力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
怎么測量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度
1、通常采用下述三種方法來(lái)測量鍍鋁膜的厚度：
A.光密度法:即以光線(xiàn)透過(guò)鍍鋁膜的密度來(lái)測量。用光密度法測量鍍鋁膜的厚度方便、準確。
B.采用表面方塊電阻測量法，這種方法比較簡(jiǎn)單實(shí)用。通常來(lái)說(shuō)，鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2之間。
C.目測估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對著(zhù)日光燈或天空看，以看不見(jiàn)的光線(xiàn)為準，鍍層厚度應達400?以上。
2、鍍鋁牢度
一般是用膠帶來(lái)檢測鍍鋁牢度的。
具體方法為：把長(cháng)約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強光的燈箱檢驗鋁層脫落轉移的情況便可。
或者把一種特別制備的試驗膜與PET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗機剝離，測定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉移情況。
3、鍍鋁膜鍍層的均勻度
電阻層電阻的偏差，實(shí)際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測樣品橫向等距離地取8~10個(gè)規格為100mm×100mm的試樣，用電阻測量?jì)x分別測出方塊的電阻值，取其算數平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。
鍍鋁膜由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性，是一種價(jià)廉美觀(guān)、性能優(yōu)良、實(shí)用性強的包裝材料，因此，鍍鋁膜已經(jīng)被廣泛地應用于食品、醫l藥、化工等產(chǎn)品的包裝，比如快餐食品、茶葉、咖啡和化妝品的包裝.
鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強的阻隔性，而且幾乎可以阻隔所有的紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光和紅外線(xiàn)，可以延長(cháng)內容物的保存期和貨架壽命，此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過(guò)率小，能夠長(cháng)久保持內容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。
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